광학·렌즈

940 nm 양자 효율 15 %는 550 nm 대비 광자 4.9배, 와트 2.85배의 조명을 요구하고, 움직이는 부품에서 노출을 3분의 1로 줄이면 14.6배와 8.5배가 됩니다. 실리콘의 흡수 깊이 54.6 μm가 그 이유입니다.

라인스캔 영상의 양 끝은 렌즈의 코사인 4승 감쇠로 가운데의 0.77입니다. 게인 1.3배는 밝기만 맞추고 SNR은 0.88에 남기니 조명을 양 끝 1.3배로 짜고, 높이 ±2 mm에서 입사각 30°의 조도 저하 34 %는 15°로 낮추면…

850 nm 밴드패스 필터는 공장 LED 빛을 지우지만 햇빛은 남깁니다. 남은 흔들림은 노출을 줄인 만큼이 아니라 과구동 배수만큼 줄어서, 40 계조가 필터로 2 계조, 10배 과구동으로 0.2 계조까지 내려갑니다.

모노 카메라에 625 nm 조명을 쓰면 녹색 마스크 위 80 μm 구리 노출이 4.9 px로 찍히지만, 같은 센서의 컬러판 적색 채널에서는 2.45칸에 그칩니다. 결함마다 밴드를 따로 맡기고 대비 0.3을 기준으로 세 장을 맞춥니다.

두께 3 mm 금속 부품을 확산 백라이트로 재면 가장자리가 7.6 px로 번지고, 발산각 0.29° 평행광으로 바꾸면 1.5 px로 줄어듭니다. 대신 백라이트가 1.15°를 넘게 기울면 화면 전체가 어두워지기 시작합니다.

연마 금속에 평행광 동축을 켜면 75 mm 렌즈 시야의 31.8 %만 밝고, 부품이 1° 기울면 밝은 원이 7.2 mm 밀립니다. 확산판을 넣으면 허용각이 가운데 5.93°, 모서리 3.81°로 갈려 같은 스크래치도 자리마다 판정이 달라집니다.

필름 인서트 사출 커버의 들뜸은 SWIR 투과에서 7.7 % 어두워지지만 0.1 μm 틈이면 3 %로 줄고, 1,450 nm에서 3.45 μm 화소는 14.2 μm 회절 번짐 안에 들어갑니다. 백라이트 균일도 ±2 %가 검출 하한을…